石墨烯 CVD 生长设备是一种利用化学气相沉积（CVD）技术在金属基底（如铜或镍）上合成高质量石墨烯薄膜的专用装置。该设备通过在高温条件下引入碳源气体（如甲烷）、载气和保护气体，在真空或低压环境中将碳原子沉积在基底表面形成石墨烯。其主要组成包括管式炉、石英反应腔、气体控制系统和真空系统，可精确调控温度、气体比例和反应时间，是科研和工业领域大面积石墨烯制备的核心装备。
据 GIR (Global Info Research)调研，按收入计，2024 年全球石墨烯 CVD 生长设备收入大约 206 百万美元，预计 2031 年达到 817 百万美元，2025 至 2031 期间，年复合增长率 CAGR 为 22.1%。
石墨烯 CVD 生长设备按产品类型可分为 CVD 炉与卷对卷 CVD 设备。其中，CVD 炉适用于小规模、高精度的石墨烯制备，能精准控制生长环境参数；卷对卷 CVD 设备则更侧重规模化生产，可实现连续化的石墨烯薄膜制备，满足批量应用需求。
从下游应用领域来看，石墨烯 CVD 生长设备主要服务于科研与工业两大领域。在科研领域，设备多用于实验室层面的石墨烯生长机制研究和性能探索；而在工业领域，则聚焦于石墨烯材料的产业化生产，为电子、能源等行业提供原材料支撑。
全球石墨烯 CVD 生长设备市场的主要企业各具优势。国际上，Moorfield Nanotechnology、CVD Equipment Corporation、Aixtron、Annealsys 等企业技术领先，占据重要市场份额；国内方面，安徽贝意克设备技术、德尔未来、合肥科晶材料技术等企业凭借本土化优势，在市场中逐渐崭露头角。
文章摘取环洋市场咨询（Global info Research）出版的《2025 年全球市场石墨烯 CVD 生长设备总体规模、主要生产商、主要地区、产品和应用细分研究报告》，通过专业的市场调研方法深度分析石墨烯 CVD 生长设备市场，并在报告中深入剖析石墨烯 CVD 生长设备市场竞争者对美国关税政策及各国应对措施、包括区域经济表现和供应链的影响。